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    1930年以來(lái)，透射式電子偏光顯微鏡發(fā)展極快，1940年制成了掃描電子顯徽鏡，到20世紀(jì)50年代，由于電子透鏡像差校正理論的發(fā)展和加工技術(shù)的提高，給微電子束的形成創(chuàng)造了條件，為制造具有廣泛應(yīng)用的掃描電子偏光顯微鏡打下了良好的基礎(chǔ)，但當(dāng)時(shí)掃描電子偏光顯微鏡應(yīng)用的還是背敞射電子成像，由于背散射電子的能量較大，很難排除雜散電子和二次電子的干擾，成像分辨率和放大倍數(shù)均不高，分辨率在100nm左右，放大倍數(shù)只有6000-10000倍。70年代開始，掃描電鏡的分辨率達(dá)到優(yōu)于20nm和放大倍數(shù)達(dá)1千萬(wàn)倍以上。

    實(shí)驗(yàn)室中制成的掃描透射電子偏光顯微鏡已達(dá)到優(yōu)于0.5nm分辨率的新水平，此外，還增加了許多圖像觀察，如吸收電子圖像、電子熒光圖像、掃描透射電子圖像、電位對(duì)比圖像、x射線圖像，還可安裝X射線顯微分析裝置等，因而一躍而成為各種科學(xué)研究領(lǐng)域(如地學(xué)，生物學(xué)，醫(yī)學(xué)，冶金)、機(jī)械加工及工業(yè)部門(如紡織纖維、玻璃絲、塑料制品和陶瓷產(chǎn)品的檢驗(yàn)，半導(dǎo)休制造、集成電路質(zhì)量檢查)等廣泛應(yīng)用的有力工具。

    掃描電鏡采用掃描技術(shù)，是詳細(xì)研究表面立體構(gòu)造的有效工具，它在許多方面都比光學(xué)顯微鏡和透射式電子偏光顯微鏡優(yōu)越:它的聚焦景深大，粗糙的樣品表面都可以構(gòu)成細(xì)致詳細(xì)的圖像;放大倍數(shù)可以連續(xù)變化，由20倍增至幾十萬(wàn)倍以上，因此可以對(duì)所有表面情況作細(xì)致詳細(xì)的觀察;所用的樣品很少，甚至完全不需要特殊的制備過程，不破壞樣品，實(shí)現(xiàn)無(wú)損觀察分析;因景深長(zhǎng)，可以任意地在三維空間內(nèi)構(gòu)成樣品立體感很強(qiáng)的清晰圖像，配置X射線分光儀或用非分光法，可直接探測(cè)樣品表面的成分，因而可兼有顯微分析儀的功能，能使樣品處于多種特殊環(huán)境條件下進(jìn)行試驗(yàn)觀察，如力學(xué)彎曲、磁學(xué)、電導(dǎo)性能觀察測(cè)定，高低溫條件下的相變及形態(tài)變化等等。